[发明专利]一种垂直结构的NiO/Ga2在审

专利信息
申请号: 202210661297.0 申请日: 2022-06-13
公开(公告)号: CN115084224A 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 叶建东;杨晔芸;巩贺贺;郁鑫鑫;任芳芳;顾书林;张荣 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/267;H01L29/80;H01L21/34
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 陈建和
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提出一种垂直结构的NiO/Ga2O3 JFET及其制备方法。该器件结构自下而上依次为漏极金属层、N+型Ga2O3衬底、N型Ga2O3漂移层、P型NiO层、栅金属层、Al2O3隔离层、离子注入Si+的高掺杂N+区以及源极金属层。其中,Ga2O3漂移层中刻蚀出鳍型结构,P型NiO层与栅金属层依次位于其两侧。本发明采用Ni/NiO/Ga2O3异质结构形成栅控区域,取代现有的MOS结构器件,易实现增强型,在后续的电路和功率模块应用中有更大的潜力。同时JFET器件为埋沟器件,受界面缺陷影响小,能够提高载流子迁移率与器件响应速度。
搜索关键词: 一种 垂直 结构 nio ga base sub
【主权项】:
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