[发明专利]一种基于晶体线偏器的透射式双通道压缩成像方法及系统有效

专利信息
申请号: 202210670241.1 申请日: 2022-06-14
公开(公告)号: CN115052091B 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 常军;黄翼;李轶庭;曹佳静;田江宇 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: H04N23/55 分类号: H04N23/55;H04N23/95;H04N23/951;G02B27/28;G02B5/30
代理公司: 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 代理人: 邬晓楠
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开的一种基于晶体线偏器的透射式双通道压缩成像方法及系统,属于计算成像技术领域。本发明通过双通道共用像面压缩成像,实现单次曝光同时捕获双通道图像,在相同探测器情况下,将时间分辨率提高一倍,在相同成像时间分辨率精度要求下,数据量降低一倍。本发明将双通道共用像面获取的混合图像采用频域压缩方式分离,在无需增加扫描装置情况下扩大成像视场。本发明通过基于晶体线偏器的透射式双通道压缩成像,解决光学成像视场和焦距的矛盾,实现大视场和长焦距并存成像,显著提高监控跟踪系统的目标识别概率的效果,还可获取目标的偏振信息,且具有成像系统分辨率高、带宽窄、简易装调、加工可行性高、结构紧凑、稳定性高、经济性好优点。
搜索关键词: 一种 基于 晶体 线偏器 透射 双通道 压缩 成像 方法 系统
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210670241.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top