[发明专利]一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法

摘要

本发明公开了一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法，该制备方法将纳秒激光辅助水射流近无损伤加工和飞秒激光扫描相结合，通过将纳秒激光辅助水射流近无损伤加工技术和超短脉冲飞秒激光“冷”加工技术相结合，可有效降低单晶硅激光制绒过程中的重铸层现象和热裂纹引起的亚表面损伤；同时通过调整纳秒激光辅助水射流工艺参数和飞秒激光工艺参数可以对微米尺度框架结构和纳米尺度结构分别进行灵活的修改，可以在一个微纳双尺度混合结构中同时实现几何陷光效应和有效介质效应，减少表面反射。