[发明专利]一种高结晶性单相高熵氮化物涂层及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高结晶性单相高熵氮化物涂层及其制备方法，属于涂层技术领域，该涂层包括的元素为Al、Cr、Ti、Nb、Hf和N，涂层为单一面心立方结构；该涂层的制备方法为：在Ar和N2气氛中，使用单极高功率脉冲磁控溅射的方法溅射Al25Cr25Ti25Nb25合金靶和使用双极高功率脉冲磁控溅射的方法溅射Hf金属靶，涂层沉积过程中，基体接地。本发明涂层为单一面心立方结构，结晶性强，符合高熵氮化物的强化标准。本发明涂层的制备方法无需对基体进行加热，可节省生产成本，另外，该方法可有效避免Ar离子加速引起的涂层残余压应力升高和高能离子流轰击引起的涂层生长速度降低。