[发明专利]芯片级微粒子真空腔室及其制备方法在审
申请号: | 202210736715.8 | 申请日: | 2022-06-27 |
公开(公告)号: | CN115200780A | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 吴宇列;吴学忠;肖定邦;蒲俊吉;曾凯 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
主分类号: | G01L21/22 | 分类号: | G01L21/22;B81B7/00;B81C1/00 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 黄丽;赵云颉 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种芯片级微粒子真空腔室及其制备方法,真空腔室包括腔室本体、第一封装层和第二封装层,腔室本体包括第一腔室、第二腔室和第三腔室;第一腔室、第二腔室和第三腔室均以第一封装层为底面,以第二封装层为顶面,第一腔室顶端与第二封装层之间还设有第三封装层,第一腔室、第二腔室和第三腔室之间设有相互连通的通道;第一腔室内装有微粒子,微粒子不能通过通道转移,第二腔室内设有无引线真空度检测传感器,无引线真空度检测传感器为具有磁性的悬臂梁,第三腔室内装有吸气剂。制备方法包括制备腔室本体、封装层、悬臂梁,并进行组装。本发明的芯片级微粒子真空腔室体积小、无外部引线,设计加工难度低。 | ||
搜索关键词: | 芯片级 微粒子 空腔 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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