[发明专利]基于角度自校准的反射式叠层衍射成像方法、装置和系统在审
| 申请号： | 202210752162.5 | 申请日： | 2022-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN115144373A | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 谷洪刚;李文杰;刘世元;刘力 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01N21/01 |
| 代理公司： | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人： | 曹葆青;方放 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了基于角度自校准的反射式叠层衍射成像方法、装置和系统，属于叠层衍射成像领域。本发明基于光场旋转的方式建立反射式光场传播模型，利用反射式叠层衍射算法获取低分辨率样品和探针的重构图像，旋转样品找到清晰度最高的角度实现待测样品角度的快速定位，最后设置样品和探测器的角度区间，向衍射光强分布误差最小的方向收敛，完成角度误差自校准，实现样品和探针高分辨率重构，具有校准灵敏度高、运算速度快、无需额外信息等优点，与其他校准方法互相自适应，可应用于生物样品成像、半导体缺陷检测、微纳结构表征等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 角度 校准 反射 式叠层 衍射 成像 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
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