[发明专利]一种具有径向微沟槽的抛光垫在审
| 申请号： | 202210754859.6 | 申请日： | 2022-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN114918824A | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | 刘加岭;王凯 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有径向微沟槽的抛光垫，所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层具有一旋转中心，以及与所述旋转中心同心的抛光轨迹区和环向沟槽，所述抛光轨迹区含有径向微沟槽，所述径向微沟槽的取向满足抛光时抛光介质的流型函数。本发明的抛光垫能够合理改变抛光介质在抛光垫上的停留时间，有效提升抛光速率的同时，能显著降低抛光时的终点温度，并能够提高片内和片间的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 径向 沟槽 抛光 | ||
【主权项】：
暂无信息
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