[发明专利]一种晶片还原黑化颜色获取方法及系统在审

专利信息
申请号: 202210758853.6 申请日: 2022-06-30
公开(公告)号: CN115270051A 公开(公告)日: 2022-11-01
发明(设计)人: 枋明辉;刘艺霖;黄世维;郑玉松;杨胜裕 申请(专利权)人: 泉州市三安集成电路有限公司
主分类号: G06F17/11 分类号: G06F17/11;C30B33/02;C30B33/04;C30B33/00;C30B29/30
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 李艾华
地址: 362000 福建省泉*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种晶片还原黑化颜色获取方法及系统,方法包括:测量出晶片的中心点及距晶片边缘预设距离的N个点的L值、a值和b值;所述N个点沿晶片的周向均匀分布;对测量出的N+1个点的L值进行差值运算或对测量出的N+1个点的L值、a值和b值分别进行差值运算,基于差值运算的结果计算出晶片的色差均匀性。本发明能够计算出晶片色差均匀性和晶片色度值,进而根据晶片色度值和色差均匀性判别晶片的透过率和线宽均匀性,既不造成材料损失又能即时性与批量性生产,提高了集成电路曝光线宽制程能力。
搜索关键词: 一种 晶片 还原 颜色 获取 方法 系统
【主权项】:
暂无信息
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