[发明专利]化学气相沉积设备清洁方法、装置、电子设备和存储介质

摘要

本发明提供一种化学气相沉积设备清洁方法、装置、电子设备和存储介质，其中方法包括：获取当前的工艺类型下化学气相沉积设备内部薄膜的沉积速度、当前的工艺类型对应的最大沉积厚度和清洁刻蚀速度；单次工艺流程结束后，基于化学气相沉积设备上一次清洁的时间至当前时间的时间段内化学气相沉积设备进行沉积工艺的时长，以及化学气相沉积设备内薄膜的沉积速度，确定化学气相沉积设备内的沉积薄膜厚度；若沉积薄膜厚度大于等于最大沉积厚度，则基于沉积薄膜厚度以及清洁刻蚀速度，确定预设清洁时长；发送沉积清洁命令，以对化学气相沉积设备进行沉积清洁。本发明提升了设备清洁的及时性，并且提升了设备清洁的充分性和恰当性。