[发明专利]快速选择最佳光刻胶膜厚的方法在审

专利信息
申请号: 202210817437.9 申请日: 2022-07-12
公开(公告)号: CN115268211A 公开(公告)日: 2022-11-01
发明(设计)人: 钱睿;郭晓波;张聪 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F1/68 分类号: G03F1/68
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 刘昌荣
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种快速选择最佳光刻胶膜厚的方法,提供设于加热装置上的晶圆,晶圆上形成有光刻胶层,利用加热装置设置梯度差的温度,使得晶圆上的光刻胶层的厚度为梯度分布;根据厚度为梯度分布的光刻胶层设计光罩,光罩对应每个厚度的光刻胶层均依次设有多个不同关键尺寸的量测图形以及膜厚量测图形;光刻将光罩的量测图形和膜厚量测图形转移至光刻胶层上,分别得到线宽量测结构和膜厚量测结构,之后根据每个线宽量测结构得到线宽,根据每个膜厚量测结构得到光刻胶层的厚度。本发明制备光刻胶膜厚梯度分布晶圆和特殊设计的光罩,可以只使用一片晶圆来得到不同的光刻胶厚度,节约成本和时间的同时,可以大幅增加取样点。
搜索关键词: 快速 选择 最佳 光刻 胶膜 方法
【主权项】:
暂无信息
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