[发明专利]一种利用基团修饰改善溶解度的硝基咔唑肟酯类光引发剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202210828557.9 | 申请日： | 2022-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN115124453A | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 侯占峰;许春娣 | 申请（专利权）人： | 深圳市芯研材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C07D209/88 | 分类号： | C07D209/88;C07D405/12;C07D405/14;C08F2/50;G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 上海骁象知识产权代理有限公司 31315 | 代理人： | 赵俊寅 |
| 地址： | 518110 广东省深圳市龙华区观澜*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种硝基咔唑肟酯类光引发剂，其结构通式如下， |
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| 搜索关键词： | 一种 利用 基团 修饰 改善 溶解度 硝基 咔唑肟酯类光 引发 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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