[发明专利]一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺

摘要

本发明公开了一种硅片扩散用石英舟的清洗与饱和工艺；包括：S1、用纯水冲洗石英舟卡槽内的硅渣；S2、用纯水漂洗石英舟；S3、用氢氟酸和盐酸的混合液浸泡石英舟；S4、用纯水漂洗石英舟，漂洗至石英舟表面吸附的水呈中性；吹干残留水渍；S5、将饱和炉管升温，用大流量氮气吹扫饱和炉管；S6、将石英舟送入到炉管内；升温并通氮气，维持；S7、将炉管抽至低压状态并维持，通入氮气吹扫炉管；S8、向炉管中通入氮气和氧气氧化；S9、通氮气、氧气和小氮饱和处理；S10、重复步骤S8和S9；S11、通入氮气和氧气冷却石英舟；S12、将炉管继续抽真空并维持，通氮气吹扫并升压，升压后维持；S13、通氮气，将炉管压力恢复到常压；打开炉门，取出饱和好的石英舟。