[发明专利]一种优化管内壁离子渗氮的装置及方法在审

专利信息
申请号: 202210863490.2 申请日: 2022-07-21
公开(公告)号: CN115261777A 公开(公告)日: 2022-11-01
发明(设计)人: 田修波;张鑫;巩春志 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C23C8/38 分类号: C23C8/38
代理公司: 哈尔滨华夏松花江知识产权代理有限公司 23213 代理人: 侯静
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种优化管内壁离子渗氮的装置及方法,本发明涉及一种优化管内壁离子渗氮的装置及方法。本发明目的是为了解决管筒件内壁渗氮工艺等离子体进入管筒件内部距离较短、等离子体密度低、渗氮效率低的问题,本发明装置包括金属阴极弧源、挡板、辅助阳极、管筒件、阳极杆、Ar进气管、N2‑H2混合气进气管、第一绝缘屏蔽罩、第二绝缘屏蔽罩、真空室、金属阴极弧直流电源、脉冲偏压电源和辅助阳极直流电源;金属阴极弧源连接直流电源,作为电子发射源;辅助阳极连接直流电源,吸引电子穿过管筒件向辅助阳极一侧运动,使等离子体覆盖整个管筒件内部,并提高管筒件内部等离子体密度。本发明应用于管筒件内壁离子渗氮领域。
搜索关键词: 一种 优化 内壁 离子 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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