[发明专利]一种高储能密度叠层薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202210874462.0 | 申请日： | 2022-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN115295311A | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 刘韩星;许辉煌;郝华;尧中华;曹明贺 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | H01G4/33 | 分类号： | H01G4/33;H01G4/30;H01G4/12;C04B35/622;C04B35/49;C04B35/48 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 张秋燕 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种高储能密度叠层薄膜，由BMZ层和BZT层构成，总厚度在150‑250nm之间；BMZ层和BZT层的总层数为6层，BMZ层为2‑4层，BZT层为2‑4层，其中BMZ代表Bi(Mg |
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| 搜索关键词： | 一种 高储能 密度 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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