[发明专利]一种针对人脸深度聚类的多层次去偏方法在审
| 申请号： | 202210921862.2 | 申请日： | 2022-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN115546523A | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 陈晋音;曹志骐;郑海斌 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | G06V10/762 | 分类号： | G06V10/762;G06V10/82;G06V40/16;G06N3/04;G06N3/06;G06N3/08 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 楼明阳 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种针对人脸深度聚类的多层次去偏方法，包括：(1)获取人脸数据集；(2)对获取的人脸数据集基于数据增强的方法进行预处理，来扩充数据集；(3)搭建深度聚类模型,设计深度表征学习模型和聚类模型，通过反馈机制实现深度聚类；(4)深度表征学习去偏，基于均值滤波对深度表征学习模型中的偏见神经元进行去偏；(5)聚类算法去偏，基于生成式对抗网络对聚类算法K‑Means进行数据去偏，搭建去偏生成网络和去偏判别网络，设计针对聚类算法去偏的损失函数；(6)交替联合去偏,对步骤(4)和步骤(5)已经完成去偏操作的模型进行交替联合，即将深度表征学习模型和聚类模型组合成深度聚类模型，对深度聚类模型进行一个联合去偏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 针对 深度 多层次 偏方 | ||
【主权项】：
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