[发明专利]一种大面积13

摘要

本发明公开了一种大面积13C同位素靶的制备方法。采用热压法将13C同位素粉末热压到背靶材上，得到用于磁控溅射的13C同位素块状靶材；将热压成型的13C同位素块状靶材装入磁控溅射设备中，抽真空，采用射频磁控溅射法对待镀膜样品进行镀膜，得到所需大面积13C同位素靶。采用该方法成功制备出了满足核物理实验需求的大面积13C同位素靶，制备出的13C同位素靶的有效面积可以达到直径40mm，并且由于本方法采用的是磁控溅射法，磁控溅射法产生的辉光直径约为40mm，而重离子溅射法的重离子束斑直径仅为2mm左右，因此采用本方法制备的13C同位素靶的均匀性和制备效率也得到了明显提升。