[发明专利]一种可实现在曲面基材上均匀镀膜的靶材及其制备方法在审
| 申请号： | 202210932475.9 | 申请日： | 2022-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN115261807A | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王予丛;沈栋栋;李松松 | 申请（专利权）人： | 浙江景昇薄膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 徐浩 |
| 地址： | 315413 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种可实现在曲面基材上均匀镀膜的靶材及其制备方法，所述靶材包括背板框架以及至少2个靶材单元，所述靶材单元连接于所述背板框架，所述靶材单元为六边形，所述靶材单元成阵列排布。所述靶材可实现在曲面基材上大面积均匀镀膜，提高镀膜的均匀性，同时提高靶材的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 曲面 基材 均匀 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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