[发明专利]改善光罩辅助图形extra printing的方法在审
申请号: | 202210936385.7 | 申请日: | 2022-08-05 |
公开(公告)号: | CN115373213A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 顾晓敏 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 刘昌荣 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种改善光罩辅助图形extra printing的方法,包括分别获取间隔设置的第一、二目标图形的线宽与周期,第一、二目标图形中均由至少一个线图形组成,线宽为每个线图形的线宽,周期为第一和第二目标图形中,每两相邻线宽图形中点间的距离;在第一、二目标图形中间位置插入至少一个辅助图形;根据第一、二目标图形以及辅助图形得到曝光后图形,改变辅助图形线宽的值,至辅助图形在曝光后图形中不显示,并记录辅助图形线宽的最终设置值。本发明基于经验的插入方法,在亚分辨率辅助图形规则确定之后,利用extra printing的预测图形进行验证可大大降低辅助图形extra printing出现的风险,加快项目的开发进度。 | ||
搜索关键词: | 改善 辅助 图形 extra printing 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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