[发明专利]高光谱成像装置及其制备方法、成像方法在审

专利信息
申请号: 202210959735.1 申请日: 2022-08-11
公开(公告)号: CN115326202A 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 方靖岳 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/02;G01N21/25;G01N21/01
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 魏国先;曾利平
地址: 410000 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种高光谱成像装置及其制备方法、成像方法,所述装置包括图像传感器、法布里‑珀罗滤光膜系、间隙检测模块、间隙调节机构以及控制模块;法布里‑珀罗滤光膜系的中间腔层和下层高反射膜系设在图像传感器的衬底上,上层高反射膜系设在基片上,间隙调节机构设在衬底与基片之间并使衬底与基片之间形成空气隙;控制模块根据间隙检测模块检测的空气隙控制间隙调节机构动作,以调节衬底与基片之间的空气隙,实现法布里‑珀罗滤光膜系工作波长的调节,从而实现光谱通道数量的增加,无需增加工艺复杂性和成本。
搜索关键词: 光谱 成像 装置 及其 制备 方法
【主权项】:
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