[发明专利]一种化学机械抛光系统及抛光方法在审
| 申请号： | 202210972291.5 | 申请日： | 2022-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN115194640A | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 王剑;王同庆;张国铭;路新春 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/34;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光系统及抛光方法，所述抛光系统包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元和第二清洗单元，其沿竖直方向层叠设置；所述第一清洗单元和第二清洗单元包括晶圆传输机械手和多个晶圆后处理装置，所述晶圆后处理装置围绕所述晶圆传输机械手设置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 系统 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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