[发明专利]基于ADMM网络的反射式荧光分子断层成像方法及系统在审
| 申请号： | 202210972936.5 | 申请日： | 2022-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN115311380A | 公开（公告）日： | 2022-11-08 |
| 发明（设计）人： | 邓勇;刘锴贤;蒋宇轩;李文松 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G06T11/00 | 分类号： | G06T11/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 430070 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于ADMM网络的反射式荧光分子断层成像方法及系统，涉及分子影像技术领域，方法包括：根据待重建反射荧光分布，利用解耦合荧光蒙特卡罗模型构建正向矩阵和训练数据集；利用正向矩阵构建待优化目标函数；对待优化目标函数进行L1正则化处理；利用交替方向乘子法将处理后的待优化目标函数分解成三个子问题；对三个子问题参数化得到参数化ADMM迭代网络；利用训练数据集和损失函数对参数化ADMM迭代网络进行训练和优化，得到ADMM网络；将待重建反射荧光分布输入ADMM网络中，得到重建的荧光团分布。本发明能提高反射式FMT图像重建质量。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 admm 网络 反射 荧光 分子 断层 成像 方法 系统 | ||
【主权项】：
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