[发明专利]一种功率IGBT器件及制备方法在审

专利信息
申请号: 202211062214.2 申请日: 2022-08-31
公开(公告)号: CN115377195A 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 李泽宏;黄龄萱;杨洋;赵一尚;王彤阳;刘小菡;夏梓铭;陈雨佳 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/739;H01L21/335
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种功率IGBT器件及制备方法,器件包括集电极、P型集电区、N型场阻止层、N型漂移区、氧化层、和发射极,在所述N型漂移区内部顶层中间区域设置有一个沟槽栅极结构;所述沟槽栅极结构内部设置有栅电极和氧化层;器件沟槽栅极结构一侧的第一浮空P型基区阻断了所述沟槽栅极结构和第二浮空P型基区的电场,削弱了所述沟槽栅极结构和第二浮空P型基区之间的耦合作用,提高了所述功率IGBT器件的栅控能力和阻断能力。
搜索关键词: 一种 功率 igbt 器件 制备 方法
【主权项】:
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