[发明专利]一种大面积超薄二维有机单晶的制备方法在审
| 申请号： | 202211073342.7 | 申请日： | 2022-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN115386961A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 揭建胜;张秀娟;王金文 | 申请（专利权）人： | 苏州纳捷森光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/54 | 分类号： | C30B29/54;C30B19/12;C30B19/00 |
| 代理公司： | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙) 11391 | 代理人： | 赵云秀 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市工业园区金*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种大面积超薄二维有机单晶的制备方法，涉及有机半导体技术领域。本发明先提供一封闭式生长容器，在第一区域和第二区域内均施加生长基底，在第一区域的表面处施加有机单晶晶种，之后在第二区域的表面处施加第一预设溶剂，之后加热封闭式生长容器，以使第一预设溶剂挥发，从而在封闭式生长容器内形成饱和蒸气压气氛，最后在第一区域施加第一预设溶剂和第二预设溶剂的混合溶剂，并使混合溶剂扩散至有机单晶晶种处，从而外延生长出大面积超薄二维有机单晶。上述技术方案通过选择高粘度高表面张力的生长基底可以避免对有机分子生长过程中进行干扰，在混合溶剂的作用下有机分子可定向传输，促进有机单晶晶种逐渐外延生长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大面积 超薄 二维 有机 制备 方法 | ||
【主权项】：
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