[发明专利]一种半导体集成器件在审

专利信息
申请号: 202211102837.8 申请日: 2022-09-09
公开(公告)号: CN116469909A 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 祁金伟;刘倩;张耀辉 申请(专利权)人: 苏州华太电子技术股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/739;H01L29/78;H01L29/861;H01L27/07;H01L27/06
代理公司: 北京科慧致远知识产权代理有限公司 11739 代理人: 赵红凯
地址: 215000 江苏省苏州市苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请实施例提供了一种半导体集成器件,包括:集电极金属;位于同一层的第一掺杂类型的集电极和第二掺杂类型的短路区,集电极和短路区位于集电极金属之上;形成在集电极和短路区之上的电场终止层;形成在电场终止层之上的电场过渡层;形成在电场过渡层之上的漂移区,形成在漂移区内的柱区;形成在漂移区上方的第一掺杂类型的阱区;电场过渡层的掺杂浓度电场终止层的掺杂浓度,漂移区和电场过渡层分别能够发生电导调制效应积累少数载流子;半导体集成器件关断,所述电场过渡层被完全耗尽,电场在所述电场过渡层降低且在所述电场终止层减小至0。本申请实施例解决了传统的SJ‑半导体集成器件在关断过程关断能量损耗较大的技术问题。
搜索关键词: 一种 半导体 集成 器件
【主权项】:
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