[发明专利]薄膜沉积装置及薄膜沉积方法有效
| 申请号： | 202211119898.5 | 申请日： | 2022-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN115466927B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 姜友松;王怀民;顾康鑫;郑炳蔚;杨运;董常海 | 申请（专利权）人： | 安徽其芒光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/34;C23C14/35;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/50 |
| 代理公司： | 苏州大成君合知识产权代理事务所(普通合伙) 32547 | 代理人： | 张印铎;杨新星 |
| 地址： | 230000 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 公开一种薄膜沉积装置及薄膜沉积方法，该薄膜沉积装置包括：具有真空腔的反应容器，所述反应容器内设有能将基片保持于保持面的支架；设置在所述真空腔用于对所述基片进行蒸发镀膜的蒸发镀膜机构，所述蒸发镀膜机构朝向所述保持面设置；设置在所述真空腔用于对所述基片进行溅射镀膜的溅射镀膜机构，所述溅射镀膜机构朝向所述保持面设置；其中，所述蒸发镀膜机构和所述溅射镀膜机构位于所述支架的同一侧；所述溅射镀膜机构与所述支架之间的最小距离小于20cm且大于5cm。本说明书所提供的薄膜沉积装置及薄膜沉积方法，能将蒸发镀和溅射镀相结合，在达到最大生产效率的同时满足一些特殊膜层的沉积要求。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
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