[发明专利]磷掺杂的氧化镓介电层、薄膜晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211138015.5 申请日: 2022-09-19
公开(公告)号: CN115483280A 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 许望颖;彭涛;卓双木;林秋宝;黄伟城 申请(专利权)人: 集美大学
主分类号: H01L29/51 分类号: H01L29/51;H01L21/34;H01L29/786
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 刘芙蓉
地址: 361021 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种磷掺杂的氧化镓介电层、薄膜晶体管及其制备方法,通过磷(P)掺杂利用水溶液法合成了具有优异介电性能的Ga2O3介电层。适当的P掺入可充当网络连接并减少Ga2O3中的氧相关缺陷(氧空位和羟基),从而改善Ga2O3介电层的介电特性。使用具有最佳掺杂浓度的Ga‑P‑O电介质,使得氧化物薄膜晶体管表现出更高的性能,包括高的迁移率,高的电流开/关比,低工作电压和可忽略不计的滞后性,并且具有出色的偏置应力稳定性。不仅如此,Ga2O3介电层利用水溶液法合成,简单快速,十分方便,适合大规模生产,并为下一代低成本先进Ga2O3器件提供了一条新途径。
搜索关键词: 掺杂 氧化 镓介电层 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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