[发明专利]一种陶瓷镀层沉积装置有效
| 申请号： | 202211146757.2 | 申请日： | 2022-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN115233178B | 公开（公告）日： | 2022-12-09 |
| 发明（设计）人： | 顾运松;顾家 | 申请（专利权）人： | 苏州片山机械科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/30 |
| 代理公司： | 深圳众邦专利代理有限公司 44545 | 代理人： | 熊指挥 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种陶瓷镀层沉积装置，涉及陶瓷镀层沉积设备技术领域，包括真空罐总成和真空泵组件，所述真空罐总成和所述真空泵组件通过管道连接，所述真空罐总成的侧壁上安装有电极，所述真空罐总成内部的一端位置处转动连接有支撑单元，所述支撑单元上设置有夹持单元。本发明结构合理，通过设置夹持单元、支撑单元和驱动单元，实现对多个密封支架进行夹持，并在真空罐内转动，提高了密封支架陶瓷镀层沉淀时的均匀性，避免了存在陶瓷镀层缺少，而影响密封支架的耐磨能力，并且方便密封支架从真空罐内取出，无需操作人员手直接接触密封支架，避免密封支架上的高温对操作人员手造成烫伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 陶瓷 镀层 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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