[发明专利]一种用于硅片精密抛光的磨抛轮及其制备方法在审
| 申请号： | 202211187924.8 | 申请日： | 2022-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN115556011A | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 苗昆鹏;丁玉龙;赵延军;秦凤鸣;魏莹 | 申请（专利权）人： | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
| 主分类号： | B24D3/28 | 分类号： | B24D3/28;B24D18/00 |
| 代理公司： | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人： | 杨海霞 |
| 地址： | 450001 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于硅片精密抛光的磨抛轮，其由毡基体、磨料和树脂结合剂三部分组成；以体积百分比计，毡基体50%～95%，磨料5%～50%；树脂结合剂为毡基体和磨料总质量的1%～5%。将该磨抛轮用于硅片的抛光，可以提高硅片表面质量，减少硅片的表面损伤，且耗时短，成本低，抛光过程中无需添加研磨液或抛光液，绿色环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 硅片 精密 抛光 磨抛轮 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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