[发明专利]等离子体绕流场体分布模型的构建方法及装置在审

专利信息
申请号: 202211188818.1 申请日: 2022-09-28
公开(公告)号: CN115495953A 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 满良;邓浩川;冯雪健 申请(专利权)人: 北京环境特性研究所
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 周娇娇
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施涉及等离子体技术领域,特别涉及等离子体绕流场体分布模型的构建方法及装置。方法包括:基于待分析等离子体绕流场的各数据点的位置坐标,确定等离子体绕流场的包围体空间;将包围体空间划分为多个立体网格;基于各数据点的位置坐标,将包围体空间划分为若干个元胞;每个元胞均由预设个数的数据点组成;根据每个立体网格与元胞的位置关系,对当前立体网格进行赋值,以得到等离子体绕流场的体分布模型。本申请方法每个立体网格的参数值代表该立体网格内等离子体的参数值,因此,当每个立体网格均被赋值后,就可以得到均匀分布的等离子体绕流场的体分布模型,该方法计算效率高且适用范围广。
搜索关键词: 等离子体 绕流场体 分布 模型 构建 方法 装置
【主权项】:
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