[发明专利]柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜有效

专利信息
申请号: 202211245760.X 申请日: 2022-10-12
公开(公告)号: CN115449115B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 王龙;汪刘应;刘顾;葛超群;许可俊;王文豪;王伟超;黄杰;胡灵杰;陈孟州 申请(专利权)人: 中国人民解放军火箭军工程大学
主分类号: C08J7/06 分类号: C08J7/06;C08L67/02;C08L61/16;C08L79/04;C08L81/02;G02B1/00
代理公司: 济南光启专利代理事务所(普通合伙) 37292 代理人: 宁初明
地址: 710000 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜,属于多频谱兼容隐身材料技术领域。其异质膜系结构为以下三类之一:①D/M/Z/N,②D/M/S/Z/N,③D/S/M/Z/N;其中,N膜层的材料选自TiAlN、ZrN等;Z膜层的材料选自ZnTe、ZnSe;M膜层为M1膜层、M2膜层堆叠构成的复合膜层;S膜层的材料选自ATO、FTO等;D膜层的材料选自ZnO、MgO等。本发明的柔性高耐侯高透明低辐射红外隐身异质薄膜,实现了0.38~0.78μm可见光的高透过与3~15μm中远红外波段的高反射,达到了兼具高透明、低辐射双重功能的红外隐身效果,可作为或用于制备可见光与红外兼容隐身材料。
搜索关键词: 柔性 高耐侯高 透明 辐射 红外 隐身 薄膜
【主权项】:
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