[发明专利]一种基于attention的双向表示模型的RNA修饰位点预测方法在审
| 申请号： | 202211259709.4 | 申请日： | 2022-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN115424663A | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 王鸿磊;刘辉;张林;张雪松;王栋;黄涛 | 申请（专利权）人： | 徐州工业职业技术学院 |
| 主分类号： | G16B20/30 | 分类号： | G16B20/30;G06N3/08;G06N3/04;G06K9/62 |
| 代理公司： | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人： | 韩晓娟 |
| 地址： | 221000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于attention的双向表示模型的RNA修饰位点预测方法，其涉及生物信息学RNA转录后修饰位点预测领域。包括：将包含N |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 attention 双向 表示 模型 rna 修饰 预测 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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