[发明专利]一种基于多尺度交叉注意力模型的RNA修饰位点预测方法在审

专利信息
申请号: 202211260393.0 申请日: 2022-10-14
公开(公告)号: CN115662508A 公开(公告)日: 2023-01-31
发明(设计)人: 王鸿磊;张林;刘辉;张雪松;王栋;曾文亮 申请(专利权)人: 徐州工业职业技术学院
主分类号: G16B20/30 分类号: G16B20/30;G06N3/08;G06N3/0499;G06F18/241
代理公司: 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 代理人: 韩晓娟
地址: 221000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于多尺度交叉注意力模型的RNA修饰位点预测方法,涉及生物信息学RNA转录后修饰位点预测领域。包括:对包含N1‑甲基腺苷修饰位点的RNA碱基序列为正样本和不包含N1‑甲基腺苷修饰位点的RNA碱基序列为负样本,每个样本取3组不同尺度的RNA碱基序列作为输入序列;对3组输入序列均进行词嵌入编码和位置编码;将编码后的3组序列输入编码模块中,编码模块包括一个多头交叉注意力层和一个前向反馈全连接层,对输出结果求平均值,后经过全连接神经网络层和两分类器,预测人类物种RNA碱基序列中是否包含N1‑甲基腺苷修饰位点。本发明能够描述复杂方面词的上下文关系,加强文本中重要词汇对甲基化位点预测的影响,从而能够准确预测甲基化位点。
搜索关键词: 一种 基于 尺度 交叉 注意力 模型 rna 修饰 预测 方法
【主权项】:
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