[发明专利]光学曝光系统在审
| 申请号： | 202211265939.1 | 申请日： | 2022-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN115933322A | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 王阔;尚小兵 | 申请（专利权）人： | 杭州新诺微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 虞凌霄 |
| 地址： | 311200 浙江省杭州市萧*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种光学曝光系统，包括光源输出装置、照明装置和调制投射装置，光源输出装置连接照明装置，照明装置连接调制投射装置，光源输出装置用于产生两种以上波长的光源并传输至照明装置，照明装置对接收到的两种以上波长的光源进行整合处理得到组合光，并将组合光投射至调制投射装置，调制投射装置用于将组合光进行图形调制后，投射至待曝光材料表面进行曝光。光源输出装置可以输出多种波长的光源，通过照明装置和调制投射装置对不同波长的光源的整形和图形调制等处理后，投射至待曝光材料表面进行曝光，实现了同样位置下不同波长的光源输出，曝光效果好，效率高，使用可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 曝光 系统 | ||
【主权项】：
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