[发明专利]一种基于自蔓延薄膜的纳米铜烧结方法在审

专利信息
申请号: 202211276146.X 申请日: 2022-10-19
公开(公告)号: CN115351377A 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 陈显平;钱靖 申请(专利权)人: 深圳平创半导体有限公司;重庆平创半导体研究院有限责任公司
主分类号: B23K3/00 分类号: B23K3/00;B23K3/08
代理公司: 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 代理人: 朱泽义
地址: 518000 广东省深圳市南山区南头*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供了一种基于自蔓延薄膜的纳米铜烧结方法,通过对镍铝薄膜按照预设间距进行挖孔,然后使用点胶机在所挖的各个孔中注入纳米铜焊膏,以得到单块的纳米铜焊膏和镍铝薄膜的组合体,对自蔓延纳米铜烧结结构先进行预热和保温,然后继续进行二次加热和二次保温,最后冷却至室温,完成烧结。本申请的技术方案能够大幅的加快烧结时间,大幅节约时间成本,大幅节约设备成本。
搜索关键词: 一种 基于 蔓延 薄膜 纳米 烧结 方法
【主权项】:
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