[发明专利]一种高含量高相容性的SiO2在审

专利信息
申请号: 202211334827.7 申请日: 2022-10-28
公开(公告)号: CN115449060A 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 许宏平;高峰;李亚;苏璐璐;徐冬生;张龙;葛琳;王胜龙 申请(专利权)人: 安徽皖维高新材料股份有限公司
主分类号: C08G63/183 分类号: C08G63/183;C08K9/06;C08K9/04;C08K3/36;C08J5/18;C08L67/02
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 卢敏
地址: 238002 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种高含量高相容性的SiO2哑光膜用聚酯切片及其制备方法,其各原料按重量份的构成为:对苯二甲酸50~70份;乙二醇20~30份;催化剂0.01~0.3份;热稳定剂0.02~1.0份;抗氧化剂0.01~1.0份;改性二氧化硅0.1~20.0份。本发明采用改性SiO2作为添加剂,主要通过对SiO2的表面改性以及不同的SiO2粒径的协同作用,并利用二氧化硅高效稳定分散悬浮液装置的分散和原位聚合的方式,得到了SiO2均匀分散、无团聚、界面相容性好,Si含量在50000ppm以上,且高雾度低光泽度的哑光用聚酯切片。
搜索关键词: 一种 含量 相容性 sio base sub
【主权项】:
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