[发明专利]基于ECT的底吹搅拌装置及反应物浓度与分布测量方法在审
| 申请号： | 202211346321.8 | 申请日： | 2022-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN115901876A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 肖清泰;刘佳佳;王华;祁先进;杨凯;廖亚楠;王昊天;吴京远;许威;杨姣;姚钦文 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | G01N27/22 | 分类号： | G01N27/22;B01F33/40;B01F35/21;B01J19/00;B01J19/24 |
| 代理公司： | 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 | 代理人： | 莫兆忠 |
| 地址： | 650000 云南省昆明*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本申请公开了基于ECT的底吹搅拌装置及反应物浓度与分布测量方法，包括底吹搅拌反应器和ECT数据采集系统；底吹搅拌反应器包括：气体输送管、底吹气体喷头、底吹搅拌腔以及双层ECT回字形传感器；气体输送管用于输送气体；底吹气体喷头用于将气体喷入底吹搅拌腔；底吹搅拌腔用于基于气体对工质进行搅拌，使工质的介电常数产生变化；双层ECT回字形传感器用于将工质介电常数的变化转换为工质电容信号，并将工质电容信号传输给ECT数据采集系统；ECT数据采集系统用于基于工质电容信号进行实时成像，并获取工质混匀时间，实现对底吹搅拌反应器内工质浓度与分布的测量。回字形传感器ECT成像质量更加稳定并且及抗噪声干扰性能优。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 ect 搅拌 装置 反应物 浓度 分布 测量方法 | ||
【主权项】：
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