[发明专利]一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法在审
申请号: | 202211347562.4 | 申请日: | 2022-10-31 |
公开(公告)号: | CN115650772A | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | 刘炜 | 申请(专利权)人: | 上海拓赛半导体材料有限公司 |
主分类号: | C04B41/88 | 分类号: | C04B41/88;C23C16/458;C23C16/50;C09J131/04;C09J129/04;C09J11/04;C09J11/06 |
代理公司: | 宁德一知牛知识产权代理事务所(普通合伙) 35308 | 代理人: | 黄宏彪 |
地址: | 201500 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开的属于面板制造技术领域,具体为一种气相沉积镀膜设备用中心支撑杆加工方法,包括具体步骤如下:步骤一:将陶瓷材料制作成杆体,并通过打孔机在杆体的内壁形成定位孔;步骤二:将陶瓷材料制作成支撑帽,并通过焊接在支撑帽上安装定位杆;步骤三:将陶瓷材料制作成支撑板,本发明通过接触层与玻璃基板进行接触,由于接触层具有导热性和导电性,从而会避免对产品性能造成影响,与此同时,由于接触层具有低粘结力和耐温性,从而会减少接触层在与玻璃基板接触时出现杂质粒子的问题,避免对产品的品质造成影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 镀膜 备用 中心 撑杆 加工 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海拓赛半导体材料有限公司,未经上海拓赛半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211347562.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于旋磁材料的高功率微波自适应防护装置
- 下一篇:一种自动调节的光伏百叶装置