[发明专利]基于纳米压印的二维光栅板的制备方法在审
| 申请号： | 202211358234.4 | 申请日： | 2022-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN115826117A | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 朱元强;李书比;黄书惠 | 申请（专利权）人： | 福建福特科光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 福州市众韬专利代理事务所(普通合伙) 35220 | 代理人： | 方金芝 |
| 地址： | 350100 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及基于纳米压印的二维光栅板的制备方法，包括如下步骤：制作二维光栅母版；镀制第一抗粘膜层；旋涂第一紫外纳米压印胶水层，在第一紫外纳米压印胶水层外放置一层塑料薄膜层并将二维光栅母版上的二维光栅复制到第一紫外纳米压印胶水层上形成由二维光栅工作模板；在二维光栅工作模板上镀制第二抗粘膜层沉积能完全将第二抗粘膜层上的光栅结构完全覆盖的金属层；取玻璃基板旋涂第二紫外纳米压印胶水层；将金属层与第二紫外纳米压印胶水层紧密结合，形成基于纳米压印的二维光栅板。本发明方法不仅流程简单，容易操作，良率高，成本低，效率高，可实现大面积生产；而且采用本发明的方法制备形成的金属柱状结构边界清晰，垂直度好，衍射效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 纳米 压印 二维 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
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