[发明专利]水平检测装置及水平检测方法在审
| 申请号： | 202211367999.4 | 申请日： | 2022-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN115435752A | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 李昊;刘永亮 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | G01C9/00 | 分类号： | G01C9/00;G01C9/02;H01L21/67;H01L21/66 |
| 代理公司： | 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) 61253 | 代理人： | 宋东阳;姚勇政 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及水平检测装置及水平检测方法，该水平检测装置用于检测在硅片处于半导体处理腔室中时硅片的表面的水平度，其包括：电子陀螺仪；以及承载件，其固定地承载电子陀螺仪并在检测时置于硅片的表面上，其中，承载有电子陀螺仪的承载件在竖向方向上的尺寸构造成使得水平检测装置在检测时与半导体处理腔室不发生干涉。通过该水平检测装置，能够检测内部空间的高度有限的半导体处理腔室中的硅片的表面的水平度。 | ||
| 搜索关键词： | 水平 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司，未经西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211367999.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
