[发明专利]用于反射式光具座目标发生器高精度控制装置和方法在审
| 申请号： | 202211369159.1 | 申请日： | 2022-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN115712205A | 公开（公告）日： | 2023-02-24 |
| 发明（设计）人： | 张森;管伟;张燕;赵金;左晓舟;王章利;惠刚阳;张云龙;王中强;刘伟光;张小强 | 申请（专利权）人： | 西安应用光学研究所 |
| 主分类号： | G02B27/30 | 分类号： | G02B27/30;G02B27/09;G02B27/00;G02B17/06 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人： | 刘二格 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于光学系统精密装调及高精度检测技术领域，公开了一种用于反射式光具座目标发生器高精度控制装置和方法。该装置以直线导轨为基体，通过连接孔位与反射式光学系统组件的框架连接，靶标支撑架和积分球通过转接块连接至直线导轨上，保证高精度移动过程中，靶标的照度及均匀性一致。本发明解决了目标发生器与反射式系统光轴不重合的问题，且在靶标离焦过程控制时可以精确移动目标发生装置，通过均匀性光源保证经过目标发生器后的像质和照度，保证各视场对目标发生装置的成像清晰，具有结构简单、控制方便、离轴量控制精度高、像面一致性好等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反射 式光具座 目标 发生器 高精度 控制 装置 方法 | ||
【主权项】：
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