[发明专利]一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置

摘要

本发明涉及一种旋转蒸镀与磁控溅射复合型制靶装置，所述装置包括真空靶室、旋转靶盘、磁控溅射源、蒸镀坩埚以及蒸镀电极，在真空靶室中，蒸镀坩埚与旋转靶盘间隔一定距离，蒸镀坩埚设置于蒸镀电极之间，蒸镀电极与真空靶室绝缘密封，穿过真空靶室与真空靶室外的蒸镀电源相连，磁控溅射源设置于旋转靶盘另一侧，磁控溅射源与真空靶室绝缘密封，穿过真空靶室与真空靶室外的溅射电源相连，真空靶室预留氩气充气孔以向真空靶室充入高纯氩气进行保护，在真空靶室盖板上设置手套箱，以在制靶完成后在氩气氛围中对反应靶进行封装。采用本发明中公开的装置，集成蒸镀和磁控溅射技术,将反应靶中氧杂质含量尽可能降至最低，为高精度实验测量奠定可靠基础。