[发明专利]一种晶片抛光液组合物在审
| 申请号： | 202211442203.7 | 申请日： | 2022-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN115725240A | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | 梁振 | 申请（专利权）人： | 无锡市恒利弘实业有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214412 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种晶片抛光液组合物，所述抛光液由硅溶胶研磨介质、络合剂、表面活性剂、pH调节剂和去离子水组成，其中络合剂选自对‑羟基苯‑β‑D‑吡喃葡萄糖苷，抛光液具更高的材料去除率和更低的表面粗糙度，获得的抛光材料表面光滑，无划伤，且表面抛光介质残留率低，抛光后处理方便。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 抛光 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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