[发明专利]一种图形化蓝宝石衬底、制备方法和LED外延片在审

专利信息
申请号: 202211462501.2 申请日: 2022-11-21
公开(公告)号: CN116093211A 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 王子荣;康凯;陆前军;向炯 申请(专利权)人: 广东中图半导体科技股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/20
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 严慧
地址: 523000 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种图形化蓝宝石衬底、制备方法和LED外延片。该图形化蓝宝石衬底的制备方法包括:在蓝宝石基晶片表面进行光刻胶掩膜制备;通过第一等离子源对所述蓝宝石基晶片进行刻蚀以形成第一图形化区域,并在刻蚀过程中生成刻蚀产物,以及同时通过第二等离子源与所述刻蚀产物反应生成二次掩膜,以使所述二次掩膜沉积在被刻蚀表面,其中,所述第一图形化区域侧面的沉积效果大于底部沉积效果,刻蚀效果大于所述二次掩膜沉积效果;通过第一等离子体源对所述第一图形化区域进行图形修饰刻蚀,以得到蓝宝石基三维图形。通过采用上述方案,解决了现有的图形化蓝宝石衬底的制备方法存在横向刻蚀控制能力不足、整体刻蚀时间过长的问题。
搜索关键词: 一种 图形 蓝宝石 衬底 制备 方法 led 外延
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东中图半导体科技股份有限公司,未经广东中图半导体科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211462501.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top