[发明专利]一种基于N掺杂CNT构造C@MoSe2@NCNT材料的合成方法在审

专利信息
申请号: 202211463669.5 申请日: 2022-11-22
公开(公告)号: CN116119626A 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 邱仁华;杨寅材;王锋 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: C01B19/04 分类号: C01B19/04;C01B32/168;C01B32/05;H01M10/054;H01M4/36;H01M4/583;H01M4/58;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410082 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种涉及钠离子电池负极材料的合成方法,特别涉及一种基于N掺杂CNT构造C@MoSe2@NCNT材料的合成方法,N掺杂CNT中,N的掺入会增加表面的自由电子数,从而提高导电性,也会一定程度上提高NNMWCNT的吸附能力。本发明方以五氯化钼、Se、CNT、乙二醇(聚乙二醇)为原料,通过超声分散和后续的煅烧法合成C@MoSe2@NMWCNT纳米复合异质结材料。该方法所得产品相比于同类产品,方法简单,能耗低、重复性高,MoSe2、NMWCNT可分散度高,形貌均匀,活性位点多,循环稳定性好(在2A g‑1电流密度下,1100次循环后保持226mA h g‑1的放电比容量;3600次循环后,其为168mA h g‑1),有利于实现其规模化生产。
搜索关键词: 一种 基于 掺杂 cnt 构造 mose2 ncnt 材料 合成 方法
【主权项】:
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