[发明专利]面向高真空环境薄膜生长的原位在线光谱测量系统及方法在审

专利信息
申请号: 202211473799.7 申请日: 2022-11-22
公开(公告)号: CN115753645A 公开(公告)日: 2023-03-07
发明(设计)人: 沈万福;李彬;胡春光;王海乐;于宇 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01N21/27 分类号: G01N21/27;G01N21/01
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 程毓英
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种面向高真空环境薄膜生长的原位在线光谱测量系统,包括底板(15)、真空腔(4),用于放置测量样品的样品台(5),置于真空腔(4)内的样品台(5),光路结构和光路结构遮光罩(13),位移台模块(14)置于底板(15)上,光路结构遮光罩(13)置于位移台模块(14)上,光路结构包括宽光谱光源(1)、第一离轴抛物镜(2)、可调整的光强衰减片(3)、分束片(7)、第二离轴抛物镜(8)和探测器模块(9),通过对光强衰减片(3)的调节,使得到达光电探测器的光强强度在光电探测器的饱和阈值的1/2至2/3之间。本发明同时提供上述测量系统的原位在线测量方法。
搜索关键词: 面向 真空 环境 薄膜 生长 原位 在线 光谱 测量 系统 方法
【主权项】:
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