[发明专利]真空质子辐照试验的高均匀性大束斑面离子源装置在审
| 申请号： | 202211480562.1 | 申请日： | 2022-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN115831693A | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 李昊;郑慧奇;黄首清;刘宇明;任琼英;杨勇;唐振宇;于强;刘宠;李宇;张永泰;彭毓川;杨艳斌;刘庆海;葛丽丽 | 申请（专利权）人： | 北京卫星环境工程研究所 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;G21K5/04 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理有限公司 11435 | 代理人： | 郭栋梁 |
| 地址： | 100094 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了真空质子辐照试验的高均匀性大束斑面离子源装置，包括气源，所述气源的输出端连接有电离室，所述电离室连接有引出面，所述引出面连接有加速电极，所述加速电极连接有靶台，所述靶台连接有计算机，所述计算机连接有高压电源，所述高压电源连接有电子源，所述高压电源还与电离室、引出面、加速电极连接。本发明中，使用多圈多圆弧形热阴极，各个圆弧的温度可分别控制，具有与热阴极交错布置的多层同心圆筒形电极，将引出电极延伸至电离室内部，因而离子束流的均匀性更好；热阴极的圈数、圆筒形电极的层数以及引出电极的面积等可增减，可实现大束斑面积的离子束流，具有离子通量自动调节功能，因而靶台位置的束流通量稳定性更好。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 质子 辐照 试验 均匀 性大束斑面 离子源 装置 | ||
【主权项】：
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