[发明专利]一种接近接触式曝光装置在审
| 申请号： | 202211503009.5 | 申请日： | 2022-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN115857281A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 深圳智达星空科技（集团）有限公司;智慧星空（上海）工程技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 | 代理人： | 黄贞君;赵然 |
| 地址： | 518045 广东省深圳市福田区福保街道福*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于半导体加工装置技术领域，具体涉及一种接近接触式曝光装置。本发明在传统接近接触式曝光装置的基础上，设置一个比基片待曝光区域小的曝光照明视场，同时设置支撑掩摸台和基片台或者支撑照明系统的步进或扫描运动装置，在掩模版和基片完成调焦调平和对准之后，通过驱动上述步进或扫描运动装置使照明系统相对掩摸台和基片台运动，从而完成对基片的全片曝光。本发明可以支持在曝光光源视场小于基片待曝光区域的情况下完成对基片的完整曝光，因此可以设置更精密的曝光光源，使接近接触式曝光的分辨率至3um以下；本发明可在步进或扫描曝光过程中，通过掩摸台或基片台实时微调掩摸和基片的相对位置，提高套刻精度至1um以下。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 接近 接触 曝光 装置 | ||
【主权项】：
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