[发明专利]减反膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202211504467.0 | 申请日： | 2022-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN115793111A | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 孙承啸 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;G02B1/11;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨瑞 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种减反膜及其制备方法，该减反膜包括基底、微结构层，微结构层设置于基底上，微结构层包括多个相互间隔设置的微结构，相邻微结构之间设置有凹孔，其中，凹孔的孔径及深度的范围为20nm至300nm；通过将凹孔的孔径及深度均设置为小于光波长，使光波无法识别微结构，于是折射率沿微结构垂直方向呈现梯度变化，形成折射率过渡层，从而减少折射率急剧变化所造成的反射现象，缓解了现有显示装置存在环境对比度低的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 减反膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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