[发明专利]Si纳米线阵列-4H-SiC纳米线阵列、及其制备方法和在紫外光电探测器中的应用在审

专利信息
申请号: 202211505190.3 申请日: 2022-11-29
公开(公告)号: CN115863479A 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 丁利苹;曾佳豪;尉国栋;苏莹;娄瑞;唐妍;郭一锦;郭紫傲 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;G01J1/42;H01L31/0352;H01L31/028;H01L31/0312;H01L31/109;B82B3/00
代理公司: 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 代理人: 崔瑞迎
地址: 710021*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于光电技术领域,具体来说是Si纳米线阵列‑4H‑SiC纳米线阵列、及其制备方法和在紫外光电探测器中的应用,紫外光电探测器由下至上分别为金属电极、单晶Si基底、Si纳米线阵列、4H‑SiC纳米线阵列、金属电极,紫外光电探测器的制备包括以下步骤:(1)碳化硅与硅单晶片预处理;(2)碳化硅纳米线阵列的生长与转移;(3)硅纳米线阵列的生长;(4)硅纳米线阵列与碳化硅纳米线阵列的焊接制备紫外光电探测器;本发明的紫外光电探测器制备方法简单,成本低廉,通过Si‑4H‑SiC纳米线阵列形成的pn结结构具备较高的响应度,提升了光利用率,可大幅增加紫外光电探测器的探测性能。
搜索关键词: si 纳米 阵列 sic 及其 制备 方法 紫外 光电 探测器 中的 应用
【主权项】:
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