[发明专利]一种集成电路用靶材的精密清洗方法在审
| 申请号： | 202211546323.1 | 申请日： | 2022-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN116219446A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 王兴权;刘青山;刘晓;何金江;万小勇;尚再艳;罗俊锋;吕保国;曾浩 | 申请（专利权）人： | 有研亿金新材料有限公司;有研亿金新材料（山东）有限公司 |
| 主分类号： | C23G5/028 | 分类号： | C23G5/028 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 陈波 |
| 地址： | 102299 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种集成电路用靶材的精密清洗方法，包括：(1)靶材在高纯有机溶剂清洗剂中进行高频超声清洗；(2)经步骤(1)超声清洗后的靶材浸泡在高纯共沸物有机溶剂清洗剂中进行漂洗；(3)靶材在蒸汽干燥箱中加热器对步骤(2)所用的高纯有机溶剂清洗剂进行加热，高纯有机溶剂清洗剂加热形成蒸汽清洗靶材，再停止加热溶剂，对靶材进行单独加热，干燥后得到洁净的靶材。所述工艺方法能够实现靶材在成品清洗过程中全程避免和水接触，有效杜绝靶材表面发生电化学反应的可能性，同时能够有效去除靶材表面可能存在的颗粒和油污等污染物，其清洗过程简单高效，整个清洗过程在密闭环境中进行，清洗液可以回收循环利用，排放少，实现集成电路用靶材的精密清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 集成电路 用靶材 精密 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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